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北京奥斯磁应用技术研究所

磁应用技术开发、服务 等

单位介绍
热门信息
单位介绍
北京奥斯磁应用技术研究所地址设在中国的首都，政治、文化中心北京，北京市海淀区西直门外高梁桥斜街２８号，主要经营磁应用技术开发、 服务 等，于1996年3月6日在北京工商局登记注册挂牌成立，单位注册资本10（万元）
企业档案
企业名称： 北京奥斯磁应用技术研究所 企业类型： 企业单位 (贸易商)
所 在 地： 北京 企业规模：
注册资本： 未填写 注册年份： 2000
资料认证：
保 证 金： 已缴纳 0.00 元
企业模式： 贸易商
所属范围： 磁应用技术开发、服务 等
所属行业：