北京奥斯磁应用技术研究所

北京奥斯磁应用技术研究所地址设在中国的首都，政治、文化中心北京，北京市海淀区西直门外高梁桥斜街２８号，主要经营磁应用技术开发、 服务 等，于1996年3月6日在北京工商局登记注册挂牌成立，单位注册资本10（万元）[详细介绍]

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